台積電、三星及英特爾等半導體大廠，在先進製程大戰打得火熱，但摩爾定律是否走到極限，一直是備受關注的焦點，全球最大極紫外光曝光設備（EUV）廠商艾司摩爾（ASML）則強調摩爾定律不會終結，現有技術能實現1奈米製程，摩爾定律也可繼續生效10年，甚至是更長時間。
▼全球EUV設備龍頭ASML認為，摩爾定律還可持續10年以上。（示意圖／翻攝自ASML臉書）
ASML在一篇文章中指出，「摩爾定律」是誕生於1965 年的前瞻推斷，扮演著如同光一樣的角色，在過去50多年來，一直是半導體業發展的黃金法則，不斷演進，指引晶片製造的每次創新與突破，目前最常被表述為，半導體晶片可容納的電晶體數量呈倍數成長，而增加晶片面積、縮小元件尺寸以及優化器件電路設計，是實現晶體數量翻倍的3個重要因素。
▼質疑摩爾定律失效聲音從未間斷，但電晶體數量每年倍增的定律，至今尚未被打破。（示意圖／pixabay）
ASML表示，在過去15年來，摩爾定律依舊生效，且狀況良好，從整個行業的發展來看，將在未來10年甚至更長時間，讓摩爾定律繼續保持這種態勢。
在半導體元件方面，ASML認為目前半導體製程創新的速度，應該能將製程往1奈米節點推進，另外，在光刻系統分辨率續以每6年縮小2倍的速度精進，再加上邊緣放置誤差（EPE）技術的改善下，半導體晶片繼續向下微縮仍將是可能，「只要我們還有想法，摩爾定律就會繼續生效」。
而台積電在ASML設備技術精進支援下，也有能力再讓製程往1奈米之下程微縮。
▼台積電與是推動摩爾定律持續的動力之一。（示意圖／pixabay）
（封面示意圖／翻攝自ASML官網）
