台積電離職工程師陳力銘等人涉洩漏台積電營業秘密，智慧財產及商業法院依國安法等罪判陳力銘10年徒刑、陳韋傑6年徒刑，最高法院今（30日）駁回上訴定讞。2人羈押中，將發監執行。
此外，東京威力員工盧怡尹犯湮滅刑事證據罪，坦承犯行，智慧財產及商業法院判刑10月，緩刑3年，支付公庫新台幣100萬元，參加法治教育課程6場次。盧女上訴後，現仍由最高法院審理中。
至於其餘被告及檢察官於今年4月智慧財產及商業法院宣判後並未上訴，均已判刑確定。台積電前工程師吳秉駿、戈一平分別判刑3年、2年。東京威力公司緩刑3年，應支付台積電1億元、公庫5000萬元。本案為國家安全法有關竊取國家核心關鍵技術相關條文修法後判決首例。
台灣高等檢察署智財分署起訴指出，陳力銘於民國112年至114年，為替新東家東京威力爭取成為台積電先進製程更多站點設備供應商，多次要求時任台積電工程師吳秉駿、戈一平提供關鍵技術與營業秘密，拍攝重製後以利東京威力檢討改善蝕刻機台表現，以爭取台積電2奈米製程蝕刻站點供應量產機台資格。
去年8月27日，檢方依國安法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用等罪起訴陳力銘、吳秉駿、戈一平，後續認定東京威力對陳力銘負有監督責任，追加起訴東京威力公司。
檢方另查出，東京威力硬碟尚存有台積電的國家核心關鍵技術，即「14奈米以下製程之IC製造技術及其關鍵氣體、化學品及設備技術」等營業秘密，追加起訴陳力銘、台積電工程師陳韋傑、盧怡尹。
智慧財產及商業法院審理後，今年4月宣判，陳力銘犯一般侵害營業秘密之意圖域外使用罪等5罪，判刑10年；吳秉駿犯一般侵害營業秘密之意圖域外使用罪、國安營業秘密之意圖域外使用罪，判刑3年；戈一平犯國安營業秘密之意圖域外使用罪，判刑2年；陳韋傑犯國安營業秘密之意圖域外使用罪，判刑6年。
至於盧怡尹部分，她刪除陳力銘翻拍台積電營業秘密圖檔，涉湮滅刑事證據，但在發現刪除的電磁紀錄因不明原因回復後，主動通報東京威力，由東京威力陳報偵查機關，並於準備程序時坦認犯行，智慧財產及商業法院宣告附條件緩刑及付保護管束。
陳力銘、陳韋傑、盧怡尹不服判決提起上訴，最高法院審理後認為，原判決針對陳力銘、陳韋傑部分，於認事用法上並無違誤之處，量刑妥適，今天駁回上訴確定。至於盧怡尹部分，最高法院仍在審理中。
